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工业清洗剂专家:浩科工业清洗剂之玻璃制品污垢的来源分析

工业清洗剂专家:浩科工业清洗剂之玻璃制品污垢的来源分析

  • 分类:公司新闻
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2015-08-17 11:21
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【概要描述】

工业清洗剂专家:浩科工业清洗剂之玻璃制品污垢的来源分析

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(1)光学元件、镜片在冷加工过程中,经过下盘清洗后,尚存在的磨料(CeO2,希土粉、高岭土等),冷却液(自来水,乳化剂等),辅料(蜡、沥青、虫胶等保护漆),有机溶剂(汽油、煤油)等的残渍。

(2)元件、镜片在工序流程中,操作者接触可能引起的手印,唾液印,汗渍印。

(3)元件、镜片在储存过程中,空气中的尘埃杂质、二氧化碳、温度、水汽等引起在玻璃工件表面的“腐蚀”。

(4)元件、镜片在所有相关加工过程中附带的各种污物。上述污垢又往往不是单独存在,而是相互渗透,随外界环境(温度、湿度)影响,还会氧化分解或因微生物作用而腐蚀,形成更为复杂的化合物粘附在元素表面,甚至腐蚀元素表面,形成难以清除的色斑。

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主要产品有:光学晶体镜片清洗剂,电子精密产品清洗剂,精密五金清洗剂,电镀产品清洗剂,高尔夫清洗剂,电子助焊剂,光学、精密五金切削液,碳氢清洗剂,微乳清洗剂,除蜡水、除油剂等系列产品。

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