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（1）光学元件、镜片在冷加工过程中，经过下盘清洗后，尚存在的磨料（CeO2，希土粉、高岭土等），冷却液（自来水，乳化剂等），辅料（蜡、沥青、虫胶等保护漆），有机溶剂（汽油、煤油）等的残渍。
（2）元件、镜片在工序流程中，操作者接触可能引起的手印，唾液印，汗渍印。
（3）元件、镜片在储存过程中，空气中的尘埃杂质、二氧化碳、温度、水汽等引起在玻璃工件表面的“腐蚀”。
（4）元件、镜片在所有相关加工过程中附带的各种污物。上述污垢又往往不是单独存在，而是相互渗透，随外界环境（温度、湿度）影响，还会氧化分解或因微生物作用而腐蚀，形成更为复杂的化合物粘附在元素表面，甚至腐蚀元素表面，形成难以清除的色斑。
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工业清洗剂专家：什么是水基型清洗剂
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